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來源：大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)
據(jù)佳能中國官微消息，佳能將于2023年2月21日推出半導(dǎo)體制造用晶圓測量機(jī)“MS-001”，該產(chǎn)品可以對晶片進(jìn)行高精度的對準(zhǔn)測量。
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（圖源：佳能中國）
據(jù)悉，新產(chǎn)品“MS-001”所搭載的調(diào)準(zhǔn)用示波器安裝有區(qū)域傳感器，可以進(jìn)行多像素測量，降低測量時(shí)的噪音。另外，“MS-001”還可以對多個(gè)種類的對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行測量。通過采用新開發(fā)的調(diào)準(zhǔn)用示波器光源，新產(chǎn)品可提供的波長范圍比在半導(dǎo)體光刻設(shè)備中測量時(shí)大1.5倍。
通過引進(jìn)解決方案平臺(tái)“Lithography Plus”，可以將有關(guān)半導(dǎo)體光刻機(jī)和“MS-001”的運(yùn)轉(zhuǎn)情況的相關(guān)信息集中到“Lithography Plus”中。通過數(shù)據(jù)對照監(jiān)測，可以檢測出晶圓表面對準(zhǔn)信息的變化，并在半導(dǎo)體光刻機(jī)上進(jìn)行自動(dòng)校正。
關(guān)鍵詞： 解決方案 對準(zhǔn)標(biāo)記 波長范圍 可以進(jìn)行
